Полупроводниковая литография с использованием сверхжёсткого ультрафиолетового излучения освоена всего двумя производителями чипов, но можно не сомневаться, что за ней будущее. И как любое будущее, она открывает первопроходцам возможность утвердиться на новом рынке. В частности, материалы для техпроцессов с использованием сканеров диапазона EUV начнут выпускать две японских фирмы, среди которых будет хорошо известная всем компания Fujifilm.
Сегодня информагентство Nikkei сообщило, что компании Fujifilm Holdings и Sumitomo Chemical уже в 2021 году начнут поставлять материалы, используемые в производстве микросхем следующего поколения, что может помочь уменьшить размеры чипов для смартфонов и других устройств и сделать их более энергоэффективными. Речь идёт о поставках фоторезиста — фоточувствительного материала, который играет главенствующую роль в процессах травления кремниевых кристаллов.
Японские компании давно захвалили сферу поставок фоторезиста. К примеру, сегодня поставки фоторезиста для работы сканеров диапазона EUV преимущественно осуществляют две японские компании — JSR и Shin-Etsu Chemical, которые контролируют около 90 % этого рынка. Это фактически монопольное положение даже позволило властям Японии угрожать Южной Корее санкциями, что встряхнуло рынок чипов чуть больше года назад. К счастью, тогда всё утряслось, а появление двух других поставщиков фоторезиста для EUV-литографии ещё сильнее разрядит обстановку, хотя они тоже будут японскими.
Компания Fujifilm, продолжает источник, инвестирует 4,5 млрд иен ($42,6 млн) в оборудование производственных мощностей в префектуре Сидзуока к юго-западу от Токио, чтобы начать массовое производство фоторезиста уже в следующем году. По словам представителей компании, её фоторезист оставляет после себя минимальное количество остаточного материала на кремнии, что существенно снижает вероятность появления дефектов.
Компания Sumitomo Chemical завершит оснащение завода в Осаке полным спектром мощностей по производству фоторезистов (от разработки до производства) к началу 2022 финансового года. Но она, как известный производитель фоторезиста для 193-нм сканеров, уже заранее заключила контракты на будущую продукцию. Правда, пока не раскрывает с кем. Не исключено, что речь о компании TSMC. К тому времени актуальным будет вопрос производства фоторезиста для 3-нм техпроцессов, для которых современный фоторезист не подходит по многим причинам. Проекция в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне требует собственного фотрезиста и чем тоньше техпроцесс, тем выше требования к нему.
Источник:
